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二裂酵母实际上是长双歧杆菌（Bifidobacterium longum）的另一个翻译名称，属于放线菌科双歧杆菌属，专性厌氧，革兰氏阳性，呈杆状，不形成芽孢，不运动。双歧杆菌是一种重要的肠道有益微生物，对人体健康具有生物屏障、营养作用、抗肿瘤作用、免疫增强作用、改善胃肠道功能、抗衰老等多种重要的生理功能。

在《已使用化妆品原料名称目录》(2021 版)中，二裂酵母相关原料有：二裂酵母发酵产物滤液、二裂酵母发酵产物溶胞产物和二裂酵母发酵产物提取物。二裂酵母发酵产物主要成分为有机酸（乳酸、柠檬酸和琥珀酸等）、维生素（B1、B2、B6、B12、泛酸、叶酸等）、细菌素（大多属于水溶性多肽）、多糖、蛋白质与氨基酸等。

乳酸是天然保湿因子，存在于人体肌肤中，可有效去除细纹、皱纹，加快角质更新；叶酸可以活化皮肤表皮细胞，促进营养成分的吸收，可减轻皮肤的角化速度，从而达到美容养肤和嫩化皮肤的目的；另外，氨基酸，脂质，多糖，腺苷，维生素，微量矿物质等活性成分，能滋润营养肌肤，帮助肌肤抵御外界环境和压力对皮肤造成的伤害，同时能促进多种与表皮分化和皮肤屏障功能相关的蛋白基因表达，进而达到祛皱、修复、保湿、增强皮肤弹性的功效。

一、保湿

樊猛等研究了二裂酵母发酵产物滤液和二裂酵母发酵产物溶胞产物的保湿功效（测试角质层水分含量）。二裂酵母浓度梯度：0.1%、0.2%、0.5%、1.5%、10%、20%、50%、80%、100%。

试验结果表明二裂酵母发酵产物滤液和二裂酵母发酵产物溶胞产物从0.1%添加量开始即对皮肤具有明显的保湿效果，且添加量越高对皮肤的保湿性能越明显，具有明显的正相关性。

二、修护滋养头皮

杨杏等研究了二裂酵母发酵产物溶胞产物Repair Complex CLR™ PF对头皮的修护滋养效果（针对头皮屑、头油和头皮干燥问题）。实验样品如表1所示：

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去屑效果如表2所示，含0.01%或0.05% Repair Complex CLR™的精华去屑效果最佳。

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控油效果如表3所示，含1% Repair Complex CLR™的精华对头皮的控油效果最佳。

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保湿效果如表4所示，含0.01% Repair Complex CLR™的精华对头皮的保湿效果最佳。

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三、祛皱/抗老

梁锦明研究了5%二裂酵母发酵产物滤液对细纹的改善作用。

试验方法：30名45-60岁女性志愿者。受试者面部细纹轻度或中度、皮肤松弛轻度或中度、皮肤缺乏弹性，能很好配合试验，早晚各使用一次含5%二裂酵母发酵产物滤液的祛皱精华液。VISIA面部图像分析仪检测皮肤皱纹。

试验结果：实施例4受试者的皮肤皱纹特征计数随着使用时间4周、8周，皱纹数在减少，8周时皱纹特征计数、皱纹分值减少更显著。皱纹特征计数变化率%=（测试周的皱纹特征计数-第0周的皱纹特征计数）/第0周的皱纹特征计数*100%。

试验结论： 二裂酵母发酵产物滤液应用在护肤品中可以加强皮肤新陈代谢，促进细胞增殖，紧致肌肤，减少小细纹，具有良好的祛皱功效。

四、修复屏障

李海珍使用人角质形成细胞（HaCat细胞）为模型，测定二裂酵母发酵产物对屏障修复相关基因（TGM1、FLG、 LOR、IVL和ABCA12）表达。

转谷氨酰胺酶1基因TGM1：是角质形成细胞终末分化组成角质包膜的关键步骤，是皮肤屏障功能的物质基础。

丝聚蛋白FLG：是皮肤屏障的关键，可减少抗原的入侵和TEWL，并可释放酸性物质致皮肤pH值下降，抑制细菌的生长。

兜甲蛋白LOR：是表皮颗粒细胞角质透明蛋白颗粒的主要成分，FLG基因突变影响角质形成细胞的终末分化及其表达异常使皮肤屏障功能受损。

内披蛋白IVL：在转谷酰胺酶TGK的催化作用下交叉连接并沉积在细胞膜内侧而形成不溶于水的角质化包膜。

ABCA12基因：作为一种ABC家族脂质体运体，位于板层小体界膜，参与板层小体形成，对维持正常的皮肤屏障功能起着重要作用。

结果显示试验组（5%的二裂酵母发酵产物）对屏障修复相关基因TGM1、FLG、LOR、IVL和ABCA12的表达有显著的促进作用，均高于对照组的效果，即表明二裂酵母发酵产物具有修复效果。

五、总结

二裂酵母相关原料具有很强的抗免疫抑制活性并能促进DNA修复，可有效保护皮肤，不受紫外线引起的损伤，用于乳化、水基及水醇体系的护肤、防晒及晒后护理产品，帮助预防表皮及真皮的光老化；另外可以加强角质层的代谢，还能捕获自由基，抑制脂质的过氧化，具有美白、抗衰老的功能；其中富含的营养物质，有滋养皮肤的功能。

参考资料：

[1] 樊猛. 二裂酵母相关原料保湿功效研究. 广东化工. 2021.

[2] 杨杏. 临床测试评价二裂酵母修护和滋养头皮的功效. 广东化工. 2021.

[3] 李海珍. 二裂酵母发酵产物及其制备方法和用途. 发明专利. 2021.

[4] 梁锦明. 一种二裂酵母发酵产物滤液及其在护肤品. 发明专利. 2021.

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